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APIOS NE-950EX干法刻蝕設(shè)備PX 1900
NLD-5700干法刻蝕裝置PX 1900
UC100-SE紫外臭氧清洗機(jī)PX 1900
EIS-200ERP離子束刻蝕機(jī)PX 1900
EIS-1500離子束刻蝕機(jī)PX 1900
80 Plus條形等離子清潔系統(tǒng)PX 1900
PT500等離子清洗機(jī)PX 1900
PlasmaPro 100 Polaris單晶圓刻蝕系統(tǒng)PX 1900
GIGAbatch批量晶圓處理等離子系統(tǒng)PX 1900
PlasmaPro 100 Cobra ICP電感耦合等離子體刻蝕PX 1900
KS-S300-E單片濕法刻蝕機(jī)PX 1900
PTP-300等離子清洗和加熱機(jī)PX 1900
customized多腔等離子體工藝系統(tǒng)PX 1900
customized多腔等離子體刻蝕系統(tǒng)PX 1900
SENTECH 集群系統(tǒng)等離子刻蝕集群系統(tǒng)PX 1900
SENTECH SI 500 CCPRIE等離子刻蝕系統(tǒng)PX 1900
SENTECH SI 591等離子刻蝕系統(tǒng)RIEPX 1900
SENTECH Etchlab 200 RIERIE等離子蝕刻系統(tǒng)PX 1900
RIE-350iPC等離子體(ICP)刻蝕設(shè)備PX 1900
SENTECH SI 500 C低溫ICP-RIE等離子體刻蝕系統(tǒng)PX 1900
LMEC-30012英寸特種金屬膜層刻蝕設(shè)備PX 1900
Pangea® A 系列12英寸離子束塑形(IBS) 設(shè)備PX 1900
RIE-200NLRIE等離子刻蝕系統(tǒng)PX 1900
Lorem® A 系列8英寸離子束塑形(IBS)設(shè)備PX 1900
Ganister™ A 系列8英寸離子束沉積(IBD)設(shè)備PX 1900
Herent® Chimera® A12英寸硬掩膜刻蝕設(shè)備PX 1900
Herent® Chimera® M12英寸金屬刻蝕設(shè)備PX 1900
Tebaank® Pishow® P8英寸硅刻蝕設(shè)備PX 1900
Kessel® Pishow® M8英寸金屬刻蝕設(shè)備PX 1900
Pishow® A 系列8英寸電感耦合等離子體刻蝕設(shè)備PX 1900
Pishow® D 系列8英寸電感耦合等離子體-深硅刻蝕設(shè)備PX 1900
Haasrode® Avior® A電容耦合等離子體刻蝕(CCP)設(shè)備PX 1900
Shale® C 系列8英寸電感耦合等離子體化學(xué)氣相沉積設(shè)備PX 1900
RIE200/Plus反應(yīng)離子刻蝕機(jī)PX 1900
RIE-230iPC等離子體(ICP) 刻蝕設(shè)備PX 1900
PlasmaPro 100 ALE原子層刻蝕PX 1900
SI 500 C等離子體蝕刻系統(tǒng)PX 1900
SENTECH SI 500 ICP-RIE等離子蝕刻系統(tǒng)PX 1900
Etchlab 200開(kāi)蓋等離子蝕刻系統(tǒng)PX 1900
60升干法清洗設(shè)備等離子清洗活化設(shè)備PX 0
薄膜生長(zhǎng)設(shè)備
工藝測(cè)量和檢測(cè)設(shè)備
集成電路測(cè)試與分選設(shè)備
光刻及涂膠顯影設(shè)備
熱工藝設(shè)備/熱處理設(shè)備
硅片制備/晶體生長(zhǎng)設(shè)備
掩模版和中間掩模版制造設(shè)備
離子注入設(shè)備
干法工藝設(shè)備
濕法工藝設(shè)備
組裝與封裝設(shè)備
其它半導(dǎo)體行業(yè)儀器設(shè)備
森泰克刻蝕機(jī)Etchlab 200
森泰克感應(yīng)耦合等離子刻蝕機(jī)SI 500
過(guò)程臭氧分析儀半導(dǎo)體干法清洗設(shè)備專(zhuān)用
批量晶圓處理等離子系統(tǒng)
條形等離子清潔系統(tǒng)
大氣式等離子清潔系統(tǒng)
等離子刻蝕集群系統(tǒng)
等離子清洗和加熱機(jī)
等離子體刻蝕機(jī)
大氣常壓等離子處理機(jī)器
日本SAMCO RIE等離子蝕刻設(shè)備
上海衡平儀器儀表有限公司
賽默飛色譜及質(zhì)譜
上海平軒科學(xué)儀器有限公司
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